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离子束刻蚀系统IBE

简要描述:v离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广

基础信息

产品型号

厂商性质

代理商

更新时间

2024-10-22

浏览次数

237
详细介绍

v离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项,包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调,以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果

v应用方向:

Ø磁阻式随机存取存储器(MRAM

Ø介电薄膜

ØIII-V族光电子材料刻蚀

Ø自旋电子学

Ø金属电极和轨道

Ø超导体

Ø激光端面镀膜

Ø高反射(HR)膜

Ø防反射(AR)膜

Ø环形激光陀螺反射镜

ØX射线光学系统

Ø红外(IR)传感器

ØII-VI族材料

Ø通信滤波器

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